반도체이온주입공정연구원

반도체소자공정연구원과 공동으로 이온주입공정 목표를 수립하고, 관련 연구·개발활동을 수행한다.소자공정연구원을 중심으로 사진현상, 식각, 확산, 박막, 세정 및 연마 공정연구원과 긴밀한 공동 연구를 통해 최적의 이온주입 공정특성을 보유한 소자회로 배선구조 및 특성을 개발한다.국내외 학회, 세미나, 연구기관 및 제조업체로부터 획득한 정보 및 제품을 기반으로 다양한 소재, 부품, 공정 및 장비기술을 시험평가하고, 최적화하는 연구·개발활동을 단독 또는 공동으로 수행한다.이온주입 공정개발과정에는 반도체 생산라인 이관 시 최고의 품질 및 생산성을 고려한 소재, 부품, 공정 및 장비기술을 연구·개발한다.