무전해도금원

작업표준서를 보고 작업에 필요한 장비와 공구를 준비한다.밀착을 좋게 하기 위하여 성형응력을 제거하고, 친수성을 가지게 한다.다음 공정의 에칭을 균일하게 하기 위하여 표면조정 및 탈지액을 건욕하고 탈지를 실시한다.작업표준서 대로 에칭(Etching)액을 건욕하고 에칭을 한다.감수성처리(Sensitizing)액을 건욕하고 부식에 의해 조화된 표면에 환원력이 강한 주석이온을 흡착시킨다.활성화처리(Activation)액을 건욕하고 무전해 도금에서 촉매가 될 금속 팔라듐을 석출시킨다.캐털리스팅에서 흡착된 염화제일주석과 염화팔라듐 콜로이드 촉매 중 염화제일주석을 제거하기 위하여 액셀러레이션 처리를 한다.화학니켈도금액 또는 화학구리도금액을 건욕하고 화학도금을 한다.전기를 통하여 황산구리도금을 실시한다.