메모리반도체소자 공정연구원

메모리반도체소자 회로설계 사양에 따라 다양한 재료와 배선선폭을 가지는 Photo Mask를 사진현상공정연구원과 함께 연구·개발한다.고객이 요구하는 소자회로 성능목표를 기준으로 사진현상, 식각, 이온주입, 확산, 화학기상증착, 금속막증착, 세정, 연마 및 계측검사공정을 조합한 소자제조공정(Process Integration)을 단위공정연구원과 공동으로 연구·개발한다.DRAM 소자의 Isolation, Gate, Bit Line, Capacitor, Interconnect 등 회로배선을 다양한 소재, 구조를 이용하여 연구·개발한다.이후 메모리반도체소자 조립 및 검사공정을 통해 소자의 전기적, 구조적 특성의 유효성 여부를 검증한다.