박막트랜지스터노광현상원

클린룸에 입장하기 위하여 방진복을 착용하고 에어샤워를 한다.이전 작업을 통해 감광물질(PR)로 된 막을 형성한 글라스에 자외선을 쪼이도록 이동시킨다.노광장비(Exposure Machine)의 오퍼레이팅 파라미터에 각종 수치와 노광시간, 자외선강도 등을 입력한다.기기를 작동시켜 감광액이 코팅된 글라스에 원하는 마스크 패턴을 형성하기 위하여 자외선을 조사하고 감광액을 반응시킨다.이때 마스크와 글라스의 밀착평탄도, 램프안정화에 주의하면서 패턴을 정렬하여 마스크 패턴을 형성시킨다.노광작업이 완료되면 자외선에 반응되어 노출이 된 부분만을 현상액을 이용하여 제거하는 현상 공정(하드베이커 공정)을 통해 원하는 패턴을 형성한다.다음 공정인 식각(에칭) 공정으로 자동이동시킨다.